CVD-SiC新材料項目公示,總投資額3.6億元

作者 | 發(fā)布日期 2026 年 06 月 04 日 15:05 | 分類 碳化硅SiC

近日,六安經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)管委會在官方平臺發(fā)布環(huán)評公示信息,安徽四象芯材電子科技有限公司CVD-SiC材料及零部件新建項目進入環(huán)境影響評價公眾參與公示階段。

圖片來源:網(wǎng)站信息截圖

項目選址落戶六安經(jīng)開區(qū)六安東都園區(qū)運營管理有限公司4號廠房,整體采用廠房租賃模式建設,項目規(guī)劃分一期、二期分步實施,項目合計總投資額3.6億元,聚焦CVD法碳化硅基材與配套零部件量產(chǎn)制造。

從項目分期建設明細來看,項目一期規(guī)劃投入建設資金1.2億元,產(chǎn)線配置2臺CVD-SiC真空爐以及全套配套生產(chǎn)設備,建成投產(chǎn)后設計產(chǎn)能為年產(chǎn)碳化硅材料1.6萬片;二期項目規(guī)劃投資額2.4億元,在一期基礎(chǔ)上新增4臺同規(guī)格CVD-SiC真空生產(chǎn)設備,二期全部完工達產(chǎn)后可新增年產(chǎn)碳化硅材料3.2萬片產(chǎn)能。項目兩期工程全部建成投產(chǎn)之后,企業(yè)整體碳化硅產(chǎn)品年產(chǎn)能合計可達4.8萬片。

依據(jù)當?shù)貓@區(qū)公示資料,本次新建項目主營CVD-SiC半導體關(guān)鍵耗材材料及配套零部件產(chǎn)品,相關(guān)產(chǎn)品多用于晶圓制造刻蝕環(huán)節(jié),屬于功率半導體、先進制程芯片生產(chǎn)所需核心耗材品類。

公開產(chǎn)業(yè)信息顯示,項目建設主體安徽四象芯材關(guān)聯(lián)主體已于合肥高新區(qū)布局總部生產(chǎn)基地,該總部項目總投資7.5億元,主營碳化硅環(huán)、硅電極等半導體精密零部件,相關(guān)產(chǎn)品已批量導入國內(nèi)頭部存儲芯片制造企業(yè)供應鏈,實現(xiàn)國產(chǎn)化批量供貨。六安新建CVD-SiC項目為企業(yè)異地產(chǎn)能擴充布局,專注上游碳化硅基材量產(chǎn),與合肥總部零部件加工業(yè)務形成上下游配套銜接。

(集邦化合物半導體整理)

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